SETO 1.60 Lensa Photochromic SHMC

1) Apa spin coating?

Spin coating minangka prosedur sing digunakake kanggo nyelehake film tipis sing seragam ing substrat sing rata.Biasane jumlah cilik saka materi nutupi Applied ing tengah landasan, kang salah siji Spinning ing kacepetan kurang utawa ora Spinning ing kabeh.Substrat banjur diputer kanthi kacepetan nganti 10.000 rpm kanggo nyebar materi lapisan kanthi gaya sentrifugal.Mesin sing digunakake kanggo nutupi spin diarani spin coater, utawa mung spinner.
Rotasi terus nalika cairan muter ing pinggir substrat, nganti kekandelan film sing dikarepake.Pelarut sing ditrapake biasane molah malih, lan bebarengan nguap.Sing luwih dhuwur kacepetan sudut spinning, luwih tipis film kasebut.Kekandelan film uga gumantung marang viskositas lan konsentrasi larutan, lan pelarut.[2]Analisis teoretis pionir babagan lapisan spin ditindakake dening Emslie et al., lan wis ditambahake dening akeh penulis sabanjure (kalebu Wilson et al., [4] sing nyinaoni tingkat panyebaran ing lapisan spin; lan Danglad-Flores et al., [5] sing nemokake gambaran universal kanggo prédhiksi kekandelan film sing disimpen).
Spin coating digunakake digunakake ing mikrofabrikasi lapisan oksida fungsional ing kaca utawa substrat kristal tunggal nggunakake prekursor sol-gel, ing ngendi bisa digunakake kanggo nggawe film tipis sing seragam kanthi kekandelan skala nano.[6]Iki digunakake sacara intensif ing photolithography, kanggo nyimpen lapisan photoresist babagan 1 micrometer nglukis.Photoresist biasane spun ing 20 kanggo 80 revolusi per detik kanggo 30 kanggo 60 detik.Iki uga akeh digunakake kanggo nggawe struktur fotonik planar sing digawe saka polimer.
Siji kauntungan kanggo muter film tipis lapisan punika uniformity saka kekandelan film.Amarga leveling dhewe, kekandelan ora beda-beda luwih saka 1%.Nanging, lapisan film polimer lan fotoresist sing luwih kandel bisa nyebabake manik-manik pinggiran sing relatif gedhe sing planarisasi nduweni watesan fisik.